现有技术如计算机芯片和材料正在越来越多地在纳米级制造，增材制造工艺也是如此。 近日，由申铉金教授领导的韩国高等科学和技术（KAIST）院化学和生物分子工程系的一个研究小组已开发出一种新型光刻技术，利用氧扩散对微型图形的功能形状进行控制。